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京迈研3521 氧化铋靶材 Bi2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料 【参数说明】
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京迈研3519 三氧化钨靶材 WO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3517 氧化锌铝靶材 AZO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3515 三氧化二铬靶材 Cr2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3514 五氧化二铌靶材 Nb2O5磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3510 氧化锌靶材 ZnO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3509 氧化铝靶材 Al2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3508 二氧化铈靶材 CeO2控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3507 氧化硼靶材 B2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3506 氧化镍靶材 NiO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3505 氧化亚钴靶材 CoO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3501 五氧化二钽靶材 Ta2O5 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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20纳米氧化铁磁粉
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