京迈研3554 氧化铕靶材 Eu2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3553 一氧化硅靶材 SiO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3552 二氧化硅靶材 SiO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3551 氧化钐靶材 Sm2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3548 氧化钪靶材 Sc2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3547 二氧化锰靶材 MnO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3538 氧化铟靶材 In2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3536 钇铁石榴石靶材 Y3Fe5O12磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3535 氧化钇靶材 Y2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3534 二氧化铪靶材 HfO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3532 三氧化二钛靶材 Ti2O3 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3531 二氧化钛靶材 TiO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3530 氧化钆靶材 Gd2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3528 二氧化钒靶材 VO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3526 氧化铁靶材 Fe2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3524 三氧化钼靶材 MoO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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